《炬丰科技-半导体工艺》硅表面的原子清洁

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：硅表面的原子清洁

编号：JFKJ-21-144

作者：炬丰科技

发明背景

  电子电路的功能和复杂性随着时间的增长，艺术家们面临着越来越多的挑战提供更好表现的途径。主要的伴侣微电子学的核心是硅，或者更广泛地说，Si基础材料。一种重要的基于基址的材料微电子文章全部详情：壹叁叁伍捌零陆肆叁叁叁学是硅锗合金:硅锗。用“x”表示锗的分数。在许多先进的半导体电路，不同的元件。这样的如P型或N型器件，三维器件，可能是光学器件，在它们的要求上可能有这样的变化在一种材料中加工它们妥协的表现。通常需要存放高质量的材料，经常是不同种类的材料，在半导体结构的制造过程中。对于沉积高质量的材料层，一个典型的需要原子清洁沉淀物所附着的表面它可以发生。艺术中遇到的一个问题是原子清洁的硅表面是非常困难的，而且清洗硅表面通常需要高温。如何在任何时候，都有一个优势，就是能够获得一个干净的Si表面温度较低，在这种温度下无害发生在那些已经构造的结构时一种新的沉积材料。

本文讲述了图纸的简要说明，发明的详细说明等问题

结论   略