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文献晶体数据改进示例5(降低残余峰)

2023-10-14 07:19 作者:DJ_Tokyo  | 我要投稿

案例来源:Dalton Trans. 2022, 51, 7530–7538.

DOI10.1039/d2dt00121g

CCDC20746882074732

 

图形用户界面:Olex2[1](版本:Olex2-1.5

精修程序:SHELXL[2](版本:SHELXL-2019/2

CIF文件下载:CCDC[3]官网

 

根据CCDC号从CCDC官网下到2074688.cif文件,用Olex2打开查看,如1所示,最大残余电子密度峰Q1Max Peak = 1.0)位于氯原子附近,且处于氯原子椭球拉伸变形方向,推测该氯原子可能存在无序,其中针对四乙基胺原子的SIMU指令限制范围(3.8)过大。

▲图1 CCDC 2074688数据概览



 

1可知,其I/σ(I)高达55.7,但分辨率只有0.81 Å,检查发现ins中使用指令“OMIT –1 52”对分辨率进行了截断,观察其I/σ(I) vs. Resolution图可知,其分辨率远高于0.81 Å,至少可达0.77 Å,如2所示。

▲图2 CCDC 2074688 I/σ(I) vs. Resolution图



 

因此,将SIMU指令范围从3.8降为2,并移除分辨率截断指令“OMIT –1 52”,在对氯原子做无序拆分处理,最大残余峰从1.0降为0.4,且R因子亦有极大改善,最终结果如3所示。

▲图3 CCDC 2074688重新处理结果



 

CCDC 2074732的情况与2074688类似,如4所示。

▲图4 CCDC 2074732数据概览



 

按同样方式对该数据进行处理,最大残余峰从2.4降为0.3R因子有极大改善,最终结果如5所示。

▲图5 CCDC 2074732重新处理结果



 

这两个数据处理前后各项指标对比如下表所示

 


视频操作演示请参阅:https://www.bilibili.com/video/BV11w411a7iX

 

结语

本案例中令人费解的一点是用OMIT指令截断分辨率,实在想不通这一点,正常来说人们追求的目标就是高分辨率,而且案例中的数据明明分辨率至少有0.77 Å,却还是人为将其降为0.81 Å,可能是原来的解析人员想通过截断分辨率来改善R因子,然而通过上述行文可知,其努力方向不对,只要将明显存在的无序进行合理的处理,那么各项指标自然可以得到相当程度的改善。

 

参考文献

[1] Dolomanov, O. V.; Bourhis, L. J.; Gildea, R. J.; Howard, J. A. K.; Puschmann, H. OLEX2: A complete structure solution, refinement and analysis program. J. Appl. Cryst. 2009, 42, 339–341.

[2] (a) Sheldrick, G. M. SHELXL-2019/2, Program for Crystal Structure Refinement, University of Göttingen, Germany, 2019. (b) Sheldrick, G. M. A short history of SHELX. Acta Cryst. 2008, A64, 112–122. (c) Sheldrick, G. M. Crystal structure refinement with SHELXL. Acta Cryst. 2015, C71, 3–8. (d) Lübben, J.; Wandtke, C. M.; Hübschle, C. B.; Ruf, M.; Sheldrick, G. M.; Dittrich, B. Aspherical scattering factors for SHELXL – model, implementation and application. Acta Cryst. 2019, A75, 50–62.

[3] (a) Allen, F. H. The Cambridge Structural Database: a quarter of a million crystal structures and rising. Acta Cryst. 2002, B58, 380–388. (b) Allen, F. H. The Cambridge Structural Database: a quarter of a million crystal structures and rising. Acta Cryst. 2016, B72, 171–179.

 

 

 


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