《炬丰科技-半导体工艺》设备和容器的清洁程序

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：设备和容器的清洁程序

编号：JFKJ-21-172

作者：炬丰科技

介绍

  这里概述的清洁程序是由DEC溢漏预防和反应局的人员使用，以指导或评估实验室承包商的表现，并在现场使用前和之后清洁取样和其他保留设备，以及取样容器。 应将足够的设备和样品容器运送到现场，以便无需在现场清洗样品容器和设备就能进行完整的检查或调查。 然而，当使用专业的野外设备时，这并不总是可能的。 包括现场清洗程序，以覆盖这些特殊问题区域。 还包括应急现场样品容器清洗程序; 但是，除非绝对必要，否则不应该使用它们。 具体的清洁程序将在下面的章节中介绍。  

清洁材料  

  本程序中所述的清洁材料在下列各段中作了定义。实验室用洗涤剂应选用无磷实验室用洗涤剂的标准品牌。 任何其他洗涤剂的使用必须在现场日志和检查或调查报告中加以证明和记录。10%的硝酸溶液由试剂级硝酸和去离子水配制。标准清洗溶剂应为农药级异丙醇。 但是，如果需要的话，溶剂可以代替特殊的研究。 农药级的丙酮或甲醇都是可接受的。 然而，应该注意的是，如果使用农药级的丙酮，用丙酮清洗设备采集的样品中丙酮的检测是可疑的。 农药级甲醇的使用比农药级异丙醇或丙酮危险得多，因此不鼓励使用。 农药级己烷、石油醚不能与水混溶; 因此，除非设备是干燥的，否则这两种溶剂都不是有效的漂洗剂。 使用除农药级异丙醇以外的任何溶剂进行设备清洗都必须有正当理由，其使用必须记录在现场日志和检查或调查报告中。自来水可用于任何市政水处理系统。 使用未经处理的饮用水是不能代替自来水的。去离子水是指通过标准去离子水树脂柱处理过的自来水。 去离子水应不含重金属或其他无机化合物(即达到或超过标准分析方法电感耦合氩等离子体分光光度计，扫描或任何合理的等效方法所定义的分析检测限度)。 无有机水是指经过活性炭和去离子化装置处理的自来水。 由5微米预滤池、活性炭装置、两个混合床去离子装置、0.2微米后滤池和后滤池组成，可产生无有机水。 milliq系统还能产生无有机水。 

用于收集有毒或危险废物中的硫胺    略

清洁材料的正确处理         略

储存现场清理tmd样品容器    略