钽靶，钽蒸发镀膜材料

钽靶材

用途：主要应用于半导体镀膜和光学镀膜。

纯度：99.95%～99.99%。

牌号：RO5200

规格：方靶材，厚度x宽度x长度=5～25x≤800x≤2000

圆靶材，厚度x直径=5～25x≤Φ800

常规靶材尺寸

6.0*127*475

6.0*127*1193

6.35*127*685.8

6.35*120.6*377.8

8.0*320*100

Ø101*6.0

Ø152.4*6.0

Ø255.6*6.0

钽蒸发镀膜材料

常规尺寸：Φ3*3，Φ6*6,也可以按照客户要求定做

晶粒度：再结晶程度≥98%，平均晶粒度<100μm，晶粒分布均匀，无分层现象。可根据用户特殊要求，晶粒可控制在30~80um

平面度≤0.2mm。

表面粗糙度<1.6μm。