芯片战争前传：为什么以举国之力全面掌握芯片产业太难了？

• ASML 的发展历程

ASML难以撼动的行业地位并非一就而就，其最早是1984年飞利浦因为经营危机放弃非核心业务而成立的一家小公司。ASML于成立当年推出第一款产品PAS2000步进重复式光刻机。1985年，拥有100名员工的ASML搬迁到新总部，1986年推出新款的PAS2500光刻机，并与德国的重要供应商蔡司(ZEISS)建立了合作关系。

1988年，ASML通过飞利浦在中国台湾的合资制造企业，进入亚洲市场，并在美国设立了5个办事处。但当时激烈的市场竞争环境，使得ASL的财务压力极大，只能依靠飞利浦的支持继续开展研发。

1991年，ASML推出PAS5500型光刻机，其行业领先的产能和分辨率得到客户认可，开始逐步实现盈利，并于1995年上市。ASML此后高速发展，于2001年推出TWINSCAN双工作台，之后几年推出了TWINSCAN XT系列浸没式光刻机，市场份额快速增长。2010年ASML成功完成第一台EUV光刻机样机NXE3100,并成为EUV光刻机的唯一厂商。

    ASML公司的快速发展，离不开与客户的紧密协作。台积电(TSMC)早期曾通过交叉协议采用飞利浦的技术生产芯片，因此地与其子公司A$L保持着密切协作：双方在浸没式光刻的研发上一拍即合，奠定了ASML浸没式光刻机的领先地位。

    ASML在与英特尔的合作中也受益颇丰。ASML加入了英特尔联合政府、企业建立了EUV技术联盟。英特尔协调美国能源部及其下属三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室，为ASML推进EUV技术的研发开放了大量技术资源，进一步扩大了对其他企业的领先优势。

    此外，ASL允许其大客户对其进行少数股权投资，英特尔、台积电、三星投资总计约39亿欧元取得23%的股份，并提供EUV研发资金13.8亿欧元，享受EUV光刻机的优先供货权，成功构筑了利益共同体。

ASML公司也格外重视上游关键供应链，通过收购Cymer,入股蔡司，获取了光源、镜头等领先技术，加速了EUV光源和光学系统的研发进程。

• 光刻设备国产化

我国光刻机及相关技术进展缓慢，相关产品多止步于科研项目，缺乏产线量产验证。

2002年，上海微电子装备有限公司(SMEE)成立，并承担了863计划中的100纳米分辨率A1f光刻机项目。通过参与863计划与02专项，上海微电子掌握了光刻机多项关键技术，并于2016年推出用于IC前道制造的600系列光刻机，工艺覆盖90纳米、110纳米和280纳米，为浸没式光刻机的研发奠定了良好的基础。

作为中国国内唯一的光刻机整机厂商，上海微电子在光刻领域的布局较为完善，覆盖了集成电路前道制造光刻、后道封装光刻、6寸及以下衬底光刻、面板光刻等多个领域。其中在后道封装领域，上海微电子已经占据了中国国内80%，全球40%的市场份颜。

券商观点：

1.半导体行业景气度下滑。全球各大晶圆厂开始

逐步削减产能和资本开支，国内晶圆厂的产能利用率也出现下滑

2.贸易保护主义等因素延缓国内晶圆厂扩产步伐。美国行政当局于2022年10月出台针对中国企业的新限制措施，对国内晶圆厂造成一定冲击，若扩产大幅放缓，会对国内光刻产业链的市场需求造成较大影响。

3.光刻设备与组件技术难度大，研发进度慢于预期。光刻设备涉及到光学、电子学、算法等领域的高难度技术，成功进入量产产线需要在客户端进行较长时间的工艺验证；光刻设备及零件研发难度极大