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表面修饰IR825/5-羧基荧光素标记SiO2二氧化硅纳米粒 5-FAM-SiO2/IR825-SiO2 NPs

2023-02-08 11:13 作者:瑞禧生物小晓  | 我要投稿

瑞禧生物给大家分享了表面修饰IR825/5-羧基荧光素标记SiO2二氧化硅纳米粒 5-FAM-SiO2/IR825-SiO2 NPs制备方法,和小编一起来看。

5-羧基荧光素标记SiO2二氧化硅纳米粒 5-FAM-SiO2的制备方法:

在超声波乳化作用下,用化学共沉淀法制备5-FAM-dextran-Fe3 O4纳米颗粒;用透射电镜和粒度分析仪观察微粒形态和大小;红外分析仪检测微粒表面结合的功能团;分光仪观察微粒的光学显像能力;振动样品磁强计检测微粒的磁响应性;MTT法检测5-FAM-dextran-Fe3 O4,dextran-Fe3 O4和Fe3 O4微粒对神经元细胞的生物性;共聚焦显微镜观察将荧光纳米颗粒与细胞共同孵育并给予不同外加磁场后,纳米颗粒标记神经元细胞的面积.采用单因素方差分析处理数据.

制得的5-FAM-dextran-Fe3 O4纳米颗粒均匀一致,直径为15~25 nm,平均粒径22 nm;其比饱和磁化强度,比剩余磁化强度,矫顽力(矫顽磁场强度)分别为86.02 A·m2·kg-1,15.05 A·m2·kg-1,5414.01 A/m,表现为超顺磁性;红外分析仪示Fe3 O4被dex-tran包裹并与5-FAM形成复合粒子;分光仪示纳米颗粒在紫外光下呈均一绿色荧光。

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