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ma-N1400系列负性光刻胶/ma-N400系列负性光刻胶/ma-N2400系列负性光刻胶

2022-06-06 14:29 作者:ruixishengwu  | 我要投稿

光刻胶用于制作各种高性能微纳,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶。

 

ma-N 系列光刻胶电子束和深紫外曝光好、电子束和深紫外灵敏;适合作为刻蚀掩模,极好的抗干刻、湿刻性能;胶图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-50 nm以下;碱性水溶液下显影

 

光刻胶NRD6015负性

聚乙烯醇肉桂酸酯系负型光刻胶

Liftft off光刻胶

ma-N 1400系列 负性光刻胶

ma-N 400系列 负性光刻胶

ma-N 2400系列 负性光刻胶

XR-1541电子束光刻胶  负性光刻胶

AZ4620光刻胶

AZ5214光刻胶

KMPR 1000系列  负性光刻胶

AZ 1500 系列i线光刻胶

 

瑞禧WFF.2022.6

 


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