正胶S1800光刻胶/AZ5214光刻胶/光刻胶BCI-3511/AZ1500系列i线光刻胶
2022-06-06 14:25 作者:ruixishengwu | 我要投稿
正胶S1800光刻胶属于紫外光刻胶-薄胶，适用于g-Line,broad line光谱，厚度范围在0.5-3.5um，分辨率为0.5um，正胶S1800光刻胶是正性光刻胶，稳定性好；适用于分辨率要求较高的光刻工艺。
AZ5214属于紫外光刻胶-薄膜，适用g/h/i-Line光谱，厚度范围在1-2um之间，分辨率为0.5um，通常应用于反转胶工艺。
BCI-3511属于紫外光刻胶-薄膜，适用i-Line光谱，厚度范围在0.5-2之间，分辨率为0.5um，通常应用于正性i线光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper工艺。
AZ 1500系列i线光刻胶属于紫外光刻胶-薄膜，适用g/h/i-Line光谱，厚度范围在0.5-5之间，分辨率为1um，正性光刻胶，广泛应用于半导体制造工艺。
KMPR 1000系列 负性光刻胶
AZ 1500 系列i线光刻胶
AR-P 6200正电子束光刻胶
Nanoscribe IP系列光刻胶
IP-PDMS光刻胶
IP-n162光刻胶
IP-Visio光刻胶
IP-S光刻胶
IP-Dip光刻胶
紫外光刻胶 AR-N 4400
瑞禧WFF.2022.6
