牛津仪器开发SiC衬底加工新方法
牛津仪器开发SiC衬底加工新方法
近日,英国半导体设备厂商Oxford Instruments(牛津仪器)宣布开发了全新的SiC衬底加工新工艺,并验证了兼容HVM的SiC衬底等离子抛光工艺能够很好地替代化学机械研磨(CMP)工艺,同时还可以缓解与CMP工艺相关的重要技术、环境和供应链问题。
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