德国Hellma晶体材料CaF2的光学特性

Hellma Materials CaF 2多年来一直被用作半导体生产微光刻的光学关键材料。

CaF2 是投影和照明光学中准分子激光光学器件的行业标准材料。CaF2 独特的光学特性可实现各种高级应用。

技术优势：

Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有独*的光学特性：

从深紫外到红外（130nm至8μm）的高宽带透射率

低折射率 （nd = 1.43384）

低光谱色散 （vd = 95.23）

准分子激光光学器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

对高能颗粒和辐射的合格抵抗力

直径可达420mm

应用领域：

红外光学元件

用于天文仪器的光学元件

天基光学器件

显微镜光学元件

光谱光学

紫外光学

激光窗口

准分子激光光学

微光刻光学

沈阳汉达森YYDS曹