半导体生产工艺及污染物的产生与处理方法

单晶硅片生产工艺及产污环节：

 

电子变压器生产工艺及产污环节：

 

印刷电路板生产工艺及产污环节：

 

污染物处理工艺：

 

华林科纳所采购刻蚀设备的客户当中，有的环保要求比较高，需要环保设备与刻蚀设备配套，进行刻蚀当中产生的污水处理，下面用含氟废水工艺处理举例：

 

Ksp=2.7 x 10-10 常温：

1、18℃时，CaF2在水中的溶解度为16.3mg/l，折合F-约为7.7mg/l

2、用石灰中和产生的CaF2沉淀是一种细微的结晶（大多数都小于3um），其沉降速度极为缓慢。

3、若废水中含有如NaCl、Na2SO4、NH4Cl等一定数量的盐类时，因为强电解质的盐效应，会增加CaF2的溶解度，降低了除氟效果。

4、钙盐沉淀法用于处理低氟浓度废水效果不佳，主要是因为诱导沉淀形成的晶核很难生成, 此时可采用加入新形成的CaF2 沉淀作为晶种，可增强除氟效果。

Ksp = [Ca2+]x[F-]2 = C：

1、实际投加过量石灰乳，即使pH>12，也只能使F-浓度降至15mg/l左右，且水中悬浮物含量很高。

2、在任何pH下，F-浓度均随着Ca2+浓度的增加而降低；尤其在Ca2+过剩量小于50mg/l时。

3、因此在实际处理过程中，常常在已投加石灰处理的含氟废水中加入另一种易溶钙盐如CaCl2等, 利用同离子效应，使CaF2的溶解平衡和溶解度受到影响, 从而析出更多的CaF2沉淀。。

4、工程中可采用投加更多的Ca(OH)2与HCl反应，生成CaCl2来实现同离子效应。

 

 

 

 

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