半导体器件超纯水机

半导体器件的制造需要消耗大量的水，在器件制造的许多不同阶段，水被用于表面清洁、湿法蚀刻、电镀和化学机械平坦化等。半导体制造所需的水不是普通意义的水，是经过严格处理，并符合半导体制造标准的超纯水。

超纯水 (UPW) 是经过高度纯化的水，去除了所有矿物质、颗粒、细菌、微生物和溶解的气体。在芯片厂里，它也经常会被混称为 DI Water（去离子水），但国内通常把去离子水与超纯水分的比较开，其实去离子水是包含了超纯水的范畴，超纯水是标准更高的去离子水。

普通的水中含有氯，硫等杂质，会腐蚀芯片中的金属。如果水中有Na，K等金属杂质，会造成MIC等问题。因此芯片制造需要一个绝对干净的水质，超纯水应运而生。在芯片制造过程中，微小的杂质或颗粒可能会导致产品缺陷，甚至导致产品失效。因此不仅是水，其他各种半导体材料如化学品，气体等都需要超高的纯度。超纯水的水质标准：电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1ppb，DO（溶解氧）小于5ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无。