蔡司FIB扫描电镜半导体封装缺陷检测-友硕

　　Microbump、TSV中的缺陷往往深埋在样品内部，使用传统的去封装、机械研磨抛光的方法固然可以加工出截面并暴露出缺陷结构，但是也有效率低、加工精度差、制样过程易引入新的缺陷等局限性。

　　蔡司激光双束电镜LaserFIB帮助用户更好地解决这个难题。

　　1、高效率

　　激光刻蚀对硅的切削效率比Ga FIB快5000倍以上，比Xe离子PFIB快近1000倍，且对不同材料都有很高的加工效率。

　　因此它非常适合用于对先进封装样品进行毫米尺度的截面制备，可以做到在十分钟内就能把表面以下数百微米甚至数毫米的结构暴露出来。

　　2、高精度

　　在制备出大尺寸的截面以后，还需要对目标区域进行局部的精细抛光，这时候就必须用到聚焦离子束FIB。在小束流条件下，Ga FIB比Xe PFIB的束斑更小，加工精度更高。此外Ga FIB可以在更小的加速电压下工作，最低可达500V，比起PFIB的2kV对样品的损伤也更小。

　　蔡司激光双束电镜LaserFIB很好地结合了飞秒激光和Ga FIB的优势，既能实现精细准确的加工，也能胜任超大尺寸样品制备的工作，满足了对先进封装样品失效分析高效率和高成功率的要求，同时也能用于裸晶样品的截面或TEM样品制备。

　　3、集成式的激光架构

　　既然激光刻蚀有这些优点，那么我们使用一台独立的激光刻蚀机搭配一台传统的Ga FIB或PFIB不就可以满足应用需求了吗?答案是不一定，这种方案的最大难点在于准确定义激光的加工区域。

　　独立的外置激光刻蚀机主要使用光学相机实现定位，精度非常有限。蔡司激光双束电镜LaserFIB是把飞秒激光集成在FIB系统里，因此可以通过SEM的高分辨图像来完成定位，精度可达2um以内。

　　而且激光加工的仓室独立于FIB仓室，不必担心加工过程中去除的大量材料对FIB仓室和电子光学系统的污染。更多请ZX昆山友硕