TEM测试制样的要求

        透射电镜（tem）作为一种较为重要的纳米级别材料表征的方法，在平时与同学们沟通时，发现还是有同学对于TEM的样品要求不明确，下面就跟着铄思百小编来了解一下吧

1、可测试的物质

        能被电子束穿透（薄）能耐电子打击（特例：降低低压或low dose）不含水分（特例：冷冻TEM）

        电子束穿透固体样品的能力主要取决于加速电压，样品的厚度以及物质的原子序数。一般来说，加速电压越高，原子序数越低，电子束可穿透的样品厚度就越大。对于100-200KV的透射电镜，要求样品厚度为50-100nm。

2、样品要求

    （1）粉末、液体样品均可，固体样品太大了的需要离子减薄、双喷、FIB、切片制样

    （2）样品必须很薄，使电子束能够穿透，一般厚度为100~200nm左右;

    （3）样品需置于直径为2~3mm的铜制载网上，网上附有支持膜;

    （4）样品应有足够的强度和稳定性，在电子线照射下不至于损坏或发生变化;

    （5）样品及其周围应非常清洁，以免污染。

    （6）样品无磁性。磁性样品容易被吸附到物镜极靴上，损害电镜的图像分辨率。

3、样品制备方法

    （1）粉末样品制备

        粉末样品主要是为了防止团聚，一般用采用分散（超声波），适当的浓度，适当的表面活性剂，适当的介质（乙醇），后两者是降低表面张力。然后转移到铜网上，采用滴或者捞的方式，适用于量子点，纳米线，纳米片，块体材料经研磨后的粉末，等等。

（2）生物样品

        包埋切片或超薄切片

（3）双喷减薄

        适用于能被酸腐蚀的物质，多为金属。

（4）离子减薄

        适用于金属，也可以对陶瓷，多符合材料进行减薄。

（5）FIB减薄

        带有“放大镜”的可手动调节围观选区的离子减薄，适用于同离子减薄。

（6）复型样品制备

        直接复型：只看样貌，适用于不能直接被观看的样品，例如特别容易被电子束打坏或者其他的不想或不能用其他方法制备的样品。

“萃取”复型：样貌+组分+SAED+晶格等，适用于（双相材料：一相溶于酸，一相不溶于酸）不溶于酸的第二相。

      以上就是铄思百小编整理的有关透射电子显微镜的制样要求的知识，如果有其他疑问或者测试需求，可以网络咨询铄思百检测实验室技术工程师。

免责声明：部分文章整合自网络，因内容庞杂无法联系到全部作者，如有侵权，请联系删除，我们会在第一时间予以答复，万分感谢。