《炬丰科技-半导体工艺》半导体化学腐蚀参考文献

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：半导体化学腐蚀参考文献

编号：JFKJ-21-217

作者：炬丰科技

摘要  

  综述了III±V半导体化学蚀刻的相关文献，以便组织引文对装置和材料研究者有用的类别。 描述性引文按拟蚀刻分组 应用和细分按特定的半导体湿法和干法蚀刻。 单独的部分分组由各种化学成分作为蚀刻剂使用的引物，使对结果和问题的看法得以广泛访问。

介绍  

  有大量关于蚀刻剂的文献，但往往很难确定具体的位置 信息。 本参考指南的目的是指导III±V半导体器件 研究适合于特殊应用的化学蚀刻剂，并提供描述有用的成果。

湿式蚀刻应用程序

略

GaAs和AlGaAs中的InGaAs