ICP-MS常见测试问题（九）
一、关于同位素稀释法空白溶液浓度是怎么求的。也像和样品一样，直接在空白溶液中加入一定量富集同位素，测其同位素比值，然后根据公式计算吗?感觉这样好像不是太准?
1. 理论上就是一样的。空白里面的含量是未知的，就像样品一样，只是含量很低而已，空白里面的同位素比值是已知的，加入的稀释剂同位素比值是已知的;加入的稀释剂浓度是已知的，就剩下一个未知的就是空白的含量了。
2. 既然是做空白，就要和原来的背景尽量相同
二、各位请问，做ICP-MS试验时的问题：
1.样品稀释1000倍检测，用In做内标，标准系列中内标都是100%左右，而样品中内标只有20%，甚至10%，这样高的抑制率正常吗?
2.而且同时检测几个内标(In、Y、Bi或Sc)，抑制率不同，这样选择不同的内标，结果就会不一样，选择内标的规则我也知道，但实际应用中该怎么选择呢?
3.有的样品空白的内标百分率为120%左右，样品的内标百分率低于100%，怎么解释呢?
4.热焰转换到冷焰时，还是很容易熄火，现在我调了一个功率是690w的，转换起来没有问题，这样对检测会有什么不良影响吗?
5.之前做过一次银的样品，后来就很难清洗，空白中的计数都有几十万，该怎么办?
6.我们需要做硅、磷、硫检测，用冷焰检测时，标准曲线做不出来，计数都在几万或十几万，制样过程应该是没什么问题的，是怎么回事呢?是酸的干扰吗?怎么排除呢?
7.样品中检测Pd 时，Pd (104)、 Pd (105)和Pd (106)同时检测，Pd (105)和Pd (106)的检测值一致，Pd (104)的检测值比Pd (105)和Pd (106)低得多，基体对Pd (105)和Pd (106)也没有干扰，那怎么回事呢?
答复1，2，3,7：我以前的应用(超纯分析为主)很少用到内标，无法给你很好的建议。不过建议你在样品处理方面做些工作， 你做什么样品?看样子满复杂的，稀释1000倍后的样品有没有进行酸化?可试试加热消解一下，有助于分解样品中的基体。
答复4：冷焰与Shield torch, PlasmaScreen, Guard Electrode 等配合使用，主要是消除某些背景的干扰， 如Ar38H1 对K39, Ar40对Ca40, ArO56对Fe56等. 通常在600w左右,至于690w是否会影响结果,你可观察比较热焰和冷焰模式下,待测元素的背景变化,若690w时你关心的元素的背景能够降到满意水平,则690w不会影响测定, 反之, 若只有降低RF功率才能降低背景则表明690w不合适。
热焰转换到冷焰时熄火的问题,我也碰到过, 可能是RF matching的问题, 或许是设定问题,或许是matching box的质量问题, 最好找工程师来看看。
答复5: 首先确定是否为银污染, 看空白中的Ag107和Ag109，若两处都有很大计数，且两者的强度比值符合Ag107/ Ag109的同位素丰度比(51.34/48.16, 几乎为1:1)，则可以肯定是银污染。必须清洗部分组件，包括进样部分，雾化器，雾化室，矩管，锥，离子透镜，估计是锥,离子透镜被污染，可以试着逐一清洗，然后测空白看看，这样可以找到污染所在。
答复6: 对硅、磷、硫检测, 应该在热焰下测，Si的第一电离能为8.152, P第一电离能为10.487,S第一电离能为10.36,相对为较难电离的元素，冷焰模式下等离子能量低，电离效率差, 很少离子产生, 你看到的几十万的计数，不是由Si, P, S离子的信号，主要是干扰。Si28受14N14N,12CO16干扰,Si29受14N14NH,12CO16H干扰, Si30受14N16O干扰；P31受14N16OH干扰；S32受O2(32)干扰, S34受O16O18干扰。
空气中的O2, N2, CO2，样品基体中的H,OH,N等比要测的Si, P, S 要多得多. 对这些干扰,碰撞反应池技术可以去除部分背景干扰，能够使Si, P, S 得检测限降到单ppb左右，具体技术细节，你可向厂商质询。若没有碰撞反应池，则可提高标准曲线点的浓度， 如100，200，500ppb或更高，试试看吧。
三、ICP-MS测杂质元素K、Na如何，是否一定要去除基体?
1. 钾、钠在自然界中存在较多。所以测量的时候必须足够的稀释。本底要干净，由于两种元素的灵敏度都十分高，所以需要用冷焰；
2. 只要溶液瓶、所用试剂、所用水能够保证高纯，就能做出来，曲线还不错，就是标准溶液大概要一周重新配一次。
四、一般文献中提到的是 方法检出限还是仪器的检出限，应该是用样品空白测的吧。如果是仪器检出限用2%的硝酸?还有就是检出限是用空白的浓度求出，还是先用其CPS值求出CPS的偏差呢?
1. 检出限表示分析方法、分析体系检测功能优劣的一个重要指标。它的含义是：在确定的分析体系中可以检测的元素最低浓度或含量，它属于定性范畴。若被测元素在分析试样中的含量高于检出限，则它可以被检出；反之，则不能检出。检出限受空白值大小及标准偏差的影响。
IUPAC于1975年推荐检出限的定义：“检出限以浓度(或质量)表示，指由特定的分析方法能够合理地检测出的最小分析信号xL求得的最低浓度cL(或质量qL)”，表达式为：
cL(或qL)=(xL-b)/m=KSb/m
式中m为分析校准曲线在低浓度范围内的斜率；b为空白平均值；Sb为空白标准偏差。测定次数为20次，IUPAC建议K=3作为检出限计算标准。
AMC(分析方法委员会)推荐真实空白，但在实际分析中，它有时很难得到。许多分析工作者使用试剂空白或接近空白。不同学者对接近空白有不同的定义，分析元素的含量为检出限的2-5倍。
2. K=3也是有根据的，
其实真正的检测限计算公式还考虑到了测定结果的置信度：
LOD = 2 squ(2)*t*SD
其中squ(2)即根号2，t为特定置信度下的单边值，如果测定次数为11次，t=2.2，这样计算出来SD前面的系数就是3.3左右，如果为20次平行测定，系数则为3。
总结
如果需要了解更多ICP-MS测试相关内容，可以联系我们铄思百检测！铄思百检测作为华中地区领先的第三方权威机构，与武汉众多高校及其分析测试中心有交流合作。除ICP-MS测试以外，扫描电镜，透射电镜，X射线电子能谱，热重分析等测试都有丰富的经验，欢迎联系送样测试！
