微加工与器件平台设备目录

高温工艺

快速退火炉

管式退火炉TUBE

真空退火炉

离子注入机

快速高温退火炉

键合工艺

晶圆键合机

晶圆解键合机

半自动兆声清洗机

临时键合匀胶台

临时晶圆键合机

键合测试设备

半自动8寸键合机

辅助测量

奥林巴斯显微镜

膜厚仪

紫外可见分光光度计

椭偏仪

探针台

台阶仪

在线形貌测试仪-AFM

激光共聚焦显微镜

冷场发射扫描电镜-SEM

穆勒矩阵光谱椭偏仪

应力仪

超声波扫描显微镜

接触式四探针方块电阻测试仪

非接触式方块电阻测试仪

线宽扫描电镜CDSEM

薄膜工艺

介质磁控

金属磁控

电子束蒸发

等离子体增强化学气相沉积

热蒸发台（高真空金属热阻蒸发薄膜沉积系统）

原子层沉积系统-ALD

低压化学气相沉积（LPCVD - TEOS / 高温氧化 / Poly Si / SIN）

电感耦合等离子体化学气相沉积（ICPCVD）

物理气相沉积设备（PVD）

双枪电子束蒸发台

湿法工艺

腐蚀台

高温腐蚀台

清洗台

电镀台Ni / 铜 / 锡

图形工艺

HMDS涂胶机

显影台

匀胶台通风柜

等离子清洗机

晶圆旋干清洗机

南光光刻机

EVG光刻机

高温无氧烘箱

双仓洁净烘箱

有机清洗台

激光直写

半自动涂胶机

半自动显影机

步进式光刻机

电子束曝光机

全自动匀胶显影机

后道工艺

超声引线仪

划片机

减薄机

激光打标机

光纤打标机

推拉力测试仪

化学机械抛光设备（CMP）

激光隐形切割设备

激光划片机

解理划线机

解理劈裂机

全自动裂片机

刻蚀工艺

深反应离子刻蚀机

等离子体去胶机

感应耦合等离子体刻蚀（ICP）

离子束刻蚀设备

离子束修调设备

埃德万斯离子束刻蚀设备

HF/氟化氙气相刻蚀机

反应离子刻蚀设备

深硅刻蚀机（ICP-05）