《炬丰科技-半导体工艺》硫酸/高锰酸盐净化工艺

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：硫酸/高锰酸盐净化工艺

编号：JFKJ-21-088

作者：炬丰科技

1.适用范围

  1.1在分析多氯联苯之前对样品提取物进行严格净化。当基线升高或色谱图过于复杂时，应使用此方法来进行 PCB 的准确定量。此方法不能用于净化其他目标分析物的提取物，因为它会破坏大多数有机化学物质，包括杀虫剂艾氏剂、狄氏剂、异狄氏剂、硫丹以及硫丹硫酸盐。

  1.2此方法仅限于文章全部详情：壹叁叁伍捌零陆肆叁叁叁由训练有素的分析师使用或在其监督下使用。每个分析员都必须证明有能力使用此方法生成可接受的结果。

2.方法总结

  2.1提取物是溶剂交换成正己烷，然后正己烷依次用(1) 浓硫酸，必要时， (2) 5% 高锰酸钾水溶液。使用这些腐蚀性试剂时必须适当小心。

  2.2空白 和重复分析样品必须与与其相关的样品进行相同的净化。

  2.3重要的是所有的提取物 在开始以下处理之前，将其交换为己烷。

 3.干扰

 3.1该技术不会破坏氯化苯、氯化萘和许多氯化农药。

 4.仪器   略

 5.试剂     略

 6.样品采集、保存和处理    略

 7.程序     略

 8.质量控制   略

9.方法性能  略

10.参考文献   略