光掩膜又称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。如果掩模具有缺陷，则可能会在晶圆上印刷不规则。因此，捕获掩模缺陷很重要。光掩模包含集成电路图形。随着晶体管越来越小，光掩模也越来越复杂，以确保将图形精确转印到硅晶圆上。相应地，光掩模的制作过程日趋先进，即便光掩模存在细微的缺陷，也可能影响晶圆器件的性能。确保光掩模图形准确且零缺陷至关重要，对高端芯片更是如此。

在半导体器件生产中，零缺陷光罩（也称为光掩模或掩模板）是实现芯片制造高良率的关键因素之一，因为光罩上的缺陷或图案位置错误会被复制到产品晶圆上面的许多芯片中。光罩制造采用的是光罩基板，即镀了吸收薄膜的石英基板。光罩检测产品能够协助光罩基板、光罩厂和IC制造商识别光罩缺陷，降低良率风险。

光掩模检测系统行业发展主要特点

行业技术壁垒高
国外企业占据主导地位。

行业集中度高

TOP5光掩模检测系统企业占据全球95%以上的市场份额。

下游产业陆续向国内转移，掩膜版进口替代步伐加快

中国已成为全球最大的半导体消费市场。随着国内制造业环节快速发展，以及国内巨大的消费市场和劳动力人口优势，全球掩膜版下游应用的主要市场将加快向国内转移，世界市场份额不断向中国集中。光掩模检测系统也逐步向中国集中。

下游电子元器件发展迅速，拉动光掩模检测系统市场需求上升

随着电子信息技术的日新月异，5G技术和人工智能带动下游终端电子产品的更新换代速度越来越快，以平板电视、笔记本电脑、数码相机、智能手机等产品为主的消费类电子产品产销量持续增长，为平板显示、半导体芯片、触控、电路板等电子元器件相关行业带来巨大的市场空间，间接带动了掩膜版行业的发展。同时，电子元器件制造商为了满足其下游产品的多功能、小型化、便携性等需求，不断加大技术投入，开发新材料、新技术以及研发新产品，这也为掩膜版行业的发展带来了更多市场需求。

市场规模分析光掩模检测系统收入分析

2020年，全球光掩模检测系统市场收入达到了975.03百万美元，预计2027年将达到1550.24百万美元，年复合增长率（CAGR）为6.51%（2021-2027）。未来几年，本行业具有很大不确定性，本文的2021-2027年的预测数据是基于过去几年的历史发展、行业专家观点、以及本文分析师观点，综合给出的预测。

根据恒州博智研究中心数据未来6年，我国光掩模检测系统市场将保持增长态势，预计至 2027年我国市场规模将增长至5.3亿美元，全国销量128台；未来6年我国市场复合增长率约为9.69%，届时全球占比将达到34.16%。

全球及中国主要光掩模检测系统供应商包括KLA-Tencor、Applied Materials、Lasertec、NuFlare、蔡司、Advantest等。2020年全球前6大光掩模检测系统厂商占据了 96%的市场份额。其中KLA-Tencor是全球最大的光掩模检测系统厂商，市场占比为61.09%，其2020年光掩模检测系统的收入约6亿美元。市场壁垒较高，未来几年行业竞争格局不会出现极端变化，但仍有可能出现其他跨国企业分食市场。

光掩模检测系统行业产业链简介

上游行业

直接影响光掩模检测系统的价格波动。

下游行业

光掩模检测系统下游行业平板显示行业、半导体行业、触控行业、电路板行业中的柔性电路板行业正处于快速发展期，行业发展前景广阔，将直接带动中国大陆掩膜版市场需求的快速上升。光掩模检测系统行业作为国家战略支持产业的关键配套产业之一，面临着巨大的发展空间。

延伸报告：【2022-2028全球及中国光掩模检测系统行业研究及十四五规划分析报告 】

本报告研究“十三五”期间全球及中国市场光掩模检测系统的供给和需求情况，以及“十四五”期间行业发展预测。

重点分析全球主要地区光掩模检测系统的产能、销量、收入和增长潜力，历史数据2017-2021年，预测数据2022-2028年。

本文同时着重分析光掩模检测系统行业竞争格局，包括全球市场主要厂商竞争格局和中国本土市场主要厂商竞争格局，重点分析全球主要厂商光掩模检测系统产能、销量、收入、价格和市场份额，全球光掩模检测系统产地分布情况、中国光掩模检测系统进出口情况以及行业并购情况等。

此外针对光掩模检测系统行业产品分类、应用、行业政策、产业链、生产模式、销售模式、行业发展有利因素、不利因素和进入壁垒也做了详细分析。

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