VCD军事高真空箱

VCD军事高真空箱压力是指在VCD高真空箱中所施加的压力。VCD军事高真空箱是一种用于制备高质量薄膜的设备，其工作原理是将待制备的材料在真空环境下加热蒸发，然后通过化学反应在基底上形成薄膜。在这个过程中，VCD军事高真空箱需要对待制备材料施加一定的压力，以保证其在高温下均匀地蒸发和沉积在基底上。因此，VCD军事高真空箱压力的大小直接影响到薄膜的质量和均匀性。

VCD军事高真空箱压力是指在VCD高真空箱中所施加的压力。VCD军事高真空箱是一种用于制备高质量薄膜的设备，其工作原理是将待制备的材料在真空环境下加热蒸发，然后通过化学反应在基底上形成薄膜。在这个过程中，VCD军事高真空箱需要对待制备材料施加一定的压力，以保证其在高温下均匀地蒸发和沉积在基底上。因此，VCD军事高真空箱压力的大小直接影响到薄膜的质量和均匀性。

二、主要技术指标：

规格型号： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

内箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范围： 100000Pa～1Pa

控制方式： 真空计显示或PLC触摸屏控制

结构： 一体式结构（内置真空泵）或分体式（外置真空泵）

内箱材质： SUS304#不锈钢

外箱材质： SECC钢板高级烤漆处理

使用电源： AC 单相 三线 220V 50HZ或AC 三相 五线 380V 50HZ

选加功能： 加热功能（RT+10℃～200℃）

真空泵： 另购（可用户自备）