光刻胶SU-8 100/电子束光刻胶SU-8 GM1010电子束 负性/PAG改性SU8光刻胶

电子束光刻胶SU-8 GM1010电子束呈现负性，具有高宽比大、 侧壁垂直、 耐化学性优异、单次旋涂可得超厚膜层（100μm）、金属的粘附性好的性质，适用于微细加工及其他微电子应用。例如：传感器、微流体元件、体硅器件、电镀及电铸、凸点制造等领域。

紫外负性光刻胶

紫外正性光刻胶

聚酰亚胺光刻胶

共价键合单分子树脂光刻胶

单分子分子玻璃光刻胶

微米尺度光刻胶

锍鎓盐键合的分子玻璃单分子光刻胶

电子束光刻胶

共价键合单分子HPS-MSF树脂光刻胶

瑞禧WFF.2022.6