光刻胶S18xx系列正性/光刻胶BCI-3511正性/BP-212正性光刻胶

正性光刻胶主要是邻重氮醌化合物。在曝光过程中，邻重氮醌化合物吸收能量引起光化学分解作用，经过较为复杂的反应过程，转变为可溶于显影液的物质，而未经感光的光刻胶则不溶于这种显影剂。因此曝光显影后，所得图像与掩膜相同，所以称作正性光刻胶。

为了改善光刻胶的成膜性和增加涂层的耐磨性，可以掺入线性酚醛树脂、聚酚、聚碳酸酯或乙酸乙烯和顺丁烯二酸酐的共聚物；或者将邻重氮醌-5-磺酰氯和带有羟基的树脂进行缩合，而将感光性官能团引入合成树脂的分子链上去，以酚醛树脂为例，连接有邻重氮萘醌结构的酚醛树脂在紫外光照射时可以发生光分解反应，放出氮气，同时在分子结构上经过重排，产生环的收缩作用，从而形成相应化合物。

PermiNex 1000系列  负性光刻胶

SU-8 3050 负性光刻胶

SU-8 2002 2015 2050光刻胶

SU-8 3010 负性光刻胶

SU-8 3035 3025光刻胶

SU-8 3050 3035 3010负性光刻胶

SU-8 2000 永久性环氧负性光刻胶

SU-8系列 负性光刻胶

SU-8 2000系列 负性光刻胶

SU-8 3000系列 负性光刻胶

SU-8 TF 6000系列 负性光刻胶

瑞禧WFF.2022.6