电子束光刻胶XR-1541-002/004/006电子束 负性/光刻胶NRD6015负性

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。

光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。

光刻胶Lift off KXN 5735-LO/LOL2000/3000/ROL-7133系列 负性光刻胶

光刻胶SU-8 100

光刻胶SU-8 2050

电子束光刻胶PMMA电子束 正性

电子束光刻胶SU-8 GM1010电子束 负性

电子束光刻胶HSQ电子束 负性

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纳米压印光刻胶MR-I T85系列

瑞禧WFF.2022.6