中国的蚀刻机的确是世界上最先进的，可是，光刻机技术排在第二梯队，跟世界最先进水平还是有很大一段差距的。所以，有人说中国芯片依旧前路艰辛，还是有一定道理的。为什么这么说呢？可以随我一起来看看。

一、国产28纳米光刻机，明年才能到来。

目前，由中国上海微电子生产的国产光刻机，最高的工艺是96纳米级别。现在已研发出28纳米技术，预计在2021年可以投放市场，但是，依然跟世界最先进的已投入量产的ASML7纳米光刻机有着好几代的差距。要想赶上ASML光刻机，可能需要好多年的艰苦奋斗。所以，目前我国中高端芯片要么直接从国外芯片厂家购买，要么通过台积电这样的芯片制造企业来代工生产。

二、美国西方国家对我们技术封锁。

在芯片研发和设计领域，我们国家的相关企业已处于世界领先地位，如：华为的麒麟芯片，在技术上已经威胁到高通芯片的霸主地位。但是，再高级的芯片设计，也只有生产出来才能发挥作用，而芯片生产是离不开光刻机的。

目前最先进的芯片设计工艺已达到5纳米级别，而我国的国产光刻机只能生产96纳米的芯片，目前肯定指望不上。而全球最先进的芯片代工厂台积电受到美国的制约，不敢给中国的芯片企业（华为）生产芯片，台积电也指望不上了。

而国内的芯片代工巨头——中芯国际，目前最先进的光刻机是14纳米，可以解决中低端芯片的生产。虽然中芯国际早就向ASML订购7纳米EUV极紫光刻机，但是ASML受到美国的压力，没敢完成订单，这笔交易一直悬在那里，可能会黄掉。也就是说，中国7纳米5纳米的高端芯片就算设计出来，也没办法生产出来。

综上所述，中国的芯片，要想彻底摆脱目前的困境，只有把自己的光刻机技术提高，并且能超过ASML，那时，我们的芯片问题才能得到最终的解决。历史已经证明，中国人是世界最具智慧的，困难只是暂时的，我们能在西方国家全面封锁的状态下，成就了两弹一星，建好了北斗导航系统，完成了探月工程，在通信领域，更是前所未有地拿到5G的绝对话语权。我们相信，没有什么事件是不可能的，未来的中国光刻机肯定会问鼎世界、笑傲江湖。

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