纳飞光电皮秒激光器在去除PVD镀膜层的应用
PVD镀膜是一项发展迅速的表面薄膜技术，其工作原理是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材（如玻璃、陶瓷）上，具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。
正因为PVD镀膜技术较为复杂，在产品的生产过程中不可避免出现一些瑕疵品，需要对工件进行传统除膜处理，据资料显示，PVD镀膜膜层的厚度非常薄，为微米级，大致为0.3μm ～ 5μm，而其间装饰镀膜膜层的厚度更小，要实现精准去除并非易事。传统的除膜方式包括机械打磨、化学试剂腐蚀等，属于直接接触式加工，存在去除效率低、精度差、损害基底材料、不环保等不足。
这是一个既要又要的问题，既要准确去除镀层，又要不能伤害工件。
激光清洗去镀作为一门新兴的工艺，它的诸多特点恰好可以满足去除镀膜的苛刻要求。激光清洗主要是利用高能量密度激光束聚焦作用在膜层表面，使之快速蒸发剥离，从而完成去除。纳飞光电研发设计的1064nm皮秒激光器，10ps左右的超窄脉宽，让离子在将能量传递到周围材料之前就已经从材料表面被烧蚀掉而不会给周围的材料带来热影响，这足以实现“冷”加工；同时它还具有burst模式，通过调整激光参数，将能量密度控制在膜层破坏阈值到基底破坏阈值的区间范围，实现了“既要又要”地高效去除薄膜。
由于膜层厚度非常的薄，激光清洗过程就尤为考验激光器的稳定性。这款皮秒激光器的脉冲稳定性和功率稳定性均小于1%RMS，稳定性非常高，在精准的输出时，方能在方寸之间游刃有余地去除浅浅的一层薄膜。若稳定性稍差一些，轻微的输出抖动都可能降低膜层去除的一致性。
据资料显示，PVD镀膜工艺在显示及触控产品生产制造中占据重要位置，广泛地应用于液晶显示器、触摸屏、太阳能电池、集成电路、特殊功能窗口涂层等领域，还可以应用在电磁屏蔽、AR光学镀膜等方向，可预见激光清洗去膜工艺有着广阔的应用空间。此外，建筑上常用的Low-E镀膜玻璃也引入激光清洗工艺用于去除特定区域的隔热膜或介质膜层，在诸多利好因素下，集优异性能、去除效率高为一体的皮秒激光器，有望进一步释放市场需求。
