科研小型台式磁控溅射仪 真空镀膜机

KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小，功能齐全。配备有电压电流反馈，样口台旋转样高度可调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率，可对大部分金属进地均匀蒸发沉积。真空腔体为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

主要特点/优势：

★     玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；

★     复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；

★     两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；

★     专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；

★     可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；

★     衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm；

★     可调速旋转靶台使薄膜更均匀

★     可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；

★  7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果

★  具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果

★  配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果