科晶新品：UNIPOL-1220S型自动研磨工作站

产品简介

      UNIPOL-1220S型自动研磨工作站，包含自动研磨抛光以及清洗单元，可以实现从研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程，通过触摸屏操作可精确控制和设置磨抛、清洗的所有参数，参数可以存档，研磨抛光过程中可以自动更换研磨砂纸或抛光垫，一键启动程序，从而实现样品自动化操作的一致性。适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。

 主要特点

1、全自动研磨拋光+清洗一次完成，节省人力

2、研磨盘片用真空吸附在下盘，研磨时，研磨盘下盘转速可任意调整。

3、研磨抛光过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫，可储存16组。

4、采用机械加压方式，且压力可调整，根据样品不同材质，任意调整所需压力，最大30kg。

5、配备3组蠕动泵进磨料，搭配使用，灵活性高。

6、整机外壳钢板烤漆，耐用安全性高，并带有防尘罩。

7、方便的触控式人机操作界面，具备可编程的软件系统。

8、包含多种材料数据库，可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。

9、通过超声实现对样品进行清洗，确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。

技术参数

1、研磨抛光单元

-上盘直径：φ160mm

-上盘转速：20-350rpm

-最大加载压力：30kg

-下研磨盘直径：381mm

-下研磨盘转速：20-378rpm

-下研磨盘采用真空吸附方式

-防水圈可升降

2、清洗单元

-清洗方式：超声波+清水冲洗

-设置有水位检测开关。

-设置有电磁阀切换进水、排水。

3、储料单元

-通过程序设置自动更换研磨砂纸和抛光垫
-最多可储存16组φ381mm磨片和抛光片，更换顺序可设定
-通过真空吸附固定在研磨抛光盘上
-通过程序可设置研磨/抛光时间和次数

-采用电动升降进给方式。

4、研磨抛光液配备

-用蠕动泵驱动滴料系统。

-标配3组滴料器，最多选配6组滴料器。

-自动检测滴料瓶是否缺液。

5、外形尺寸

长x宽x高 1600×1002×1688mm