半导体废水的特点是什么？

随着半导体需求的增加，制造商正在寻求快速扩大产能。为了使增长速度得以持续，废水处理等过程需要高效、持久、可持续。几乎数字世界的所有领域都需要用半导体来提供动力。根据McClean 2021报告，2021年全球半导体设备需求预计将达到约1.14万亿台。所以全球的半导体废水也是一个非常庞大的数量，依斯倍在处理半导体废水方面有所建树，深深探寻半导体废水的更多处理方法。

电子半导体废水的来源于半导体研磨过程产生的废水，例如酸碱废水、半导体研磨污水、半导体含氟废水、半导体含磷废水、半导体氨氮废水。半导体有机废水等，另外还来源于半导体集成电路的蚀刻废水、镀槽废水、清洗废水等。

电子半导体废水的污染物化学成分为磷、氟离子、超细颗粒物、氨氮、有机物COD、重金属离子等。

电子半导体废水处理以膜法深度处理循环利用为主

混凝预处理+砂滤+超滤+反渗透膜法，前期的混凝预处理选择混凝剂最为关键，普通的混凝剂如聚铝、聚铁等处理不能满意，特别是不能彻底絮凝去除堵塞膜的超细颗粒物，需要特殊的纳米级别的有机混凝剂，彻底絮凝分离污染膜的悬浮物、颗粒物、胶体、重金属等。半导体废水的处理方式主要以这种方法为主，依斯倍使用节能循环技术来处理半导体废水，不仅更环保而且更省钱。