场发射扫描电镜（SEM）

设备型号:Hitachi，Regulus8100

设备特点：1.SE分辨率15 KV:<0.7 nm(工作距离4 mm，非减速模式);

                  2.SE分辨率1KV:<0.8 nm (减速模

                  3.100 mm窗口能谱仪 (EDS)

                  4.倍率:20~1,000,000倍

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

可做测试项目有：

形貌、能谱点扫、能谱线扫、能谱面扫(mapping);可镀金，非磁、弱磁样品均可拍摄。

1、形貌:仪器放大倍数范围是100倍-20W倍，常规样品可以拍摄到8-10W倍，导电性不好或磁性样品大于8W倍可能会不清晰。

2、能谱: SEM能谱一般只能测C (含C) 以后的元素，(B元素也能做，但是不准，不建议做) 如果需要打能谱，需要备注好测试位置以及能谱打哪些元素，需要注意的是制样时待测元素不能与基底成分有重合，如果要测C元素，样品不要分散到含C的基底上，可以分散到硅片，锡纸上，如果要测Si元素，注意不要制样到硅片上。

3、镀金:为了保证拍摄效果，一般导电差的样品都需要镀金之后进行拍摄。