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C64725-TM04S铜合金高导电率

2021-10-23 10:38 作者:东莞长安北鼎金属材料  | 我要投稿

C64725-TM04S铜合金高导电率


微电子技术的核心是集成电路。集成电路是指以半导体晶体材料为基片(芯片),采用专门的工艺技术将组成电路的元器件和互连线集成在基片内部、表面或基片之上的微小型化电路。这种微电路在结构上比zui紧凑的分立元件电路在尺寸和重量上小成千上万倍。它的出现引起了计算机的巨大变革,成为现代信息技术的基础。己开发出的很大规模集成电路,在比小姆指甲还小的单个芯片面积上,能做出的晶体管数目,己达十万甚至百万以上。国际著名的计算机公司IBM(国际商业机器公司),己采用铜代替硅芯片中的铝作互连线,取得了突破性进展。这种用铜的新型微芯片,可以获得30%的效能增益,电路的线尺寸可以减小到0.12微米,可使在单个芯片上集成的晶体管数目达到200万个。这就为古老的金属铜,在半导体集成电路这个zui新技术领域中的应用,开创了新局面 [1]  。引线框架

为了保护集成电路或混合电路的正常工作,需要对它进行封装;并在封装时,把电路中大量的接头从密封体内引出来。这些引线要求有一定的强度,构成该集成封装电路的支承骨架,称为引线框架。实际生产中,为了高速大批量生产,引线框架通常在一条金属带上按特定的排列方式连续冲压而成。框架材料占集成电路总成本的1/3~ l/4,而且用量很大;因此,必须要有低的成本。

 SS 5640-15 (Cu Pb10 Sn10), CC495K

2216, CuPb15Sn8  Finnish standard / SFS  Cu Pb15 Sn (Cu Sn7 Pb15-C), CC496K

UE5 Pb5  French standard / AFNOR  SS 5204-15 (Cu Sn5 Pb5 Zn5), CC491K

Cu Sn6 P  French standard / AFNOR (Preci-brons)  Cu Sn6, CW452K

Cu Sn8 P  French standard / AFNOR (Preci-brons)  Cu Sn8 P, CW459K

UE14 Zn  French standard / AFNOR  SS 5465-15 (Cu Sn12), CC483K

UE9 Pb9  French standard / AFNOR  SS 5640-15 (Cu Pb10 Sn10), CC495K

U Pb20 E  French standard / AFNOR  Cu Pb15 Sn (Cu Pb15 Sn7), CC496K

U-A9 N5 Fe Y200  French standard / AFNOR  SS 5716-15 (Cu Al10 Ni5 Fe4 F70), AB-200

LM’s comparison list between different

norms from Copper alloys

铜合金价格低廉,有高的强度、导电性和导热性,加工性能、针焊性和耐蚀性优良,通过合金化能在很大范围内控制其性能,能够较好地满足引线框架的性能要求,己成为引线框架的一个重要材料。它是目前铜在微电子器件中用量zui多的一种材料。


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