基于JMP的六西格玛统计分析工具 — 刻画器
六西格玛DMAIC项目分析（A）阶段的主要任务是分析哪些自变量X对项目指标大Y或小y有显著影响。我们通过数据分析建立模型后，接下来就要寻找X的最优设置，以期达到提升良率、减小Y的波动等目的。
在此过程中，你有没有遇到过以下问题：
多个Y同时优化，顾此失彼，按下葫芦浮起瓢，鱼与熊掌不能兼得？
哪组参数才是最好的？反复尝试，精疲力竭而不得其解？
如何确定因子的公差范围和设计空间，使得输出满足顾客的要求？
对于以上种种难题，都可以使用JMP的「刻画器」轻松搞定。
2023年1月5日19:30-20:30，新年第一场JMP线上研讨会，六西格玛咨询顾问李涛林将针对以上令人头疼的种种难题，分享在六西格玛项目在分析阶段的重要工具 —— JMP刻画器的强大功能及应用。欢迎对工艺参数优化与改进感兴趣的工程师朋友报名参会。
刻画器是一种用于与模型进行交互的动态工具，可以帮助分析人员以交互式的可视化方式探索响应曲面。在JMP软件中，不管是用历史数据拟合模型，还是用DOE数据拟合模型，抑或使用类似于神经网络等工具进行预测建模，都可以使用刻画器对因子进行刻画。而且在拟合模型时无论是存储预测公式，或者手工编辑公式，都可以使用刻画器。
凭借良好的交互性和可视化，JMP让因子刻画形象直观，更方便对因子的重要性进行分析，进而轻松地优化参数，达到提高合格率、稳健输出等目的。在2022年10月最新发布的JMP 17版本中新增的设计刻画器，让确定因子的公差和设计空间变得前所未有的轻松与简便。
在课程中，将学些什么？
1. 什么是因子刻画？
2. 刻画器
单个Y的因子刻画
多个Y的因子刻画
含噪声因子的因子刻画
模拟器
缺陷参数刻画器
设计空间刻画器
3. 等高线刻画器
单个Y的等高线刻画器
多个Y的等高线刻画器
哪些人适合参加？
从事质量管理、工艺改善、流程改进、六西格玛管理、统计质量管理等工作的工程师、科研人员、部门经理；以及工程技术与管理类的学校师生
立即报名，参与学习:
https://www.jmp.com/zh_cn/events/live-webinars/non-series/2023-01-05.html?utm_campaign=wcl7015b0000057lw6AAAA&utm_source=bilibili&utm_medium=social
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