媒体又断章取义了!工程院院士:一个国家做一个光刻机是不现实的！

吴汉明是谁？中国工程院院士，中芯国际集成电路制造有限公司技术研发副总裁，湖北大学微电子学院名誉院长。他的这句话如果是从茅台院士嘴里讲出来，我一定喷得他狗血喷头。不过从一个微电子工艺专家嘴里讲出来，似乎可信度比较高。

但是我还是带着将信将疑的想法。吴汉明院士在美国做过博士后，去过英特尔公司。期间在90年代初回国，可是没待多久就又跑去美国。显然当时中国的科技环境容不下他。2001年开始一直在中芯国际工作。以他的经历，似乎不会说出荒腔走板的话出来。

果然，深扒了一下他的其他发言，我发现是媒体在断章取义！根据吴汉明院士的观点，研发光刻机不能成为唯一目标，打造半导体的完整产业链才是核心。去追求7nm芯片生产线，倒不如把精力放在虽然落后，但是完全国产化的55nm工艺上。这才是吴汉明院士讲话的初衷。他其实是站在更高的地方，放眼整个半导体产业。

目前在整个光刻机技术里，荷兰、英国占32%，美国占27%，德国占14%，日本占27%。这么多的关键技术，靠一个国家或地区很难做出一个光刻机。所以吴院士讲的话确实没错。

但是，假如中国只取代美国的27%，建造一个没有美国技术的光刻机难道也没有可能吗？我觉得也是有可能的。

最近一些时间，关于中国的企业研发出芯片相关技术的消息很多。比如4月就有光刻胶方面的消息，滨州光刻胶生产园区正式交付使用。5月山东淄博某企业突破了国外在蚀刻金属引线框架方面的技术垄断，成功研制出国产替代品。

华为的光芯片工厂也快建成了。EDA软件方面，华为开发的纯国产软件也在路上。就在昨天，华为刚曝光出一个半导体封装专利，之前华为也曾不断爆出一些芯片光刻方面专利等等。

如果中国首先在40-55nm制程实现完全国产化，或者去美国化，那对于美国的科技封锁政策来说，也是一个沉重的打击！我觉得这个目标1-2年可能就能达成！14nm以下的目标我觉得可能还得5年以上！ 大家觉得还得多少年实现呢？