单晶XRD培养技术(二)
在做单晶X射线衍射(单晶XRD)测试时,科学指南针检测平台工作人员在与很多同学沟通中了解到,好多同学对单晶XRD测试不太了解,针对此,科学指南针检测平台团队组织相关同事对网上海量知识进行整理,希望可以帮助到科研圈的伙伴们;
常见的单晶生长方法
1.溶剂缓慢挥发法
挥发化合物的近饱和溶液
干净光滑的器皿,但是全新的玻璃仪器效果往往也不好
合适的溶剂:沸点适中,不能太高或太低,60 ~ 90 度较合适。可以用不良溶剂和良溶剂的混合溶剂溶解化合物 (不良与良溶剂必须互溶,且沸点要高于良溶剂。如,甲醇里可加适量水),以避免在溶剂体积特别小时才析出晶体。
过滤:注意避免将滤纸上的纤维带入滤液。
封口、挥发:可用保鲜膜封好口,用很细的针戳孔,通过孔的数量来控制挥发速度。
清洁稳定的环境
注意:缓慢挥发,不能让溶剂完全挥发。
常用溶剂:甲醇、乙醇、氯仿、甲醇-水及 CH2Cl2-正己烷等。
2.液相扩散法
向良溶剂的溶液中扩散不良溶剂:适用于两种溶剂中溶解度差别很大的化合物。
层铺法:
上层:不良溶剂
中间:混和溶剂缓冲层
下层:良溶剂的溶液
(下层溶剂比重应比上层大,且两种溶剂必须互溶。)
下层:CH2Cl2 (CHCl3) ¾ 上层:己烷 (庚烷、辛烷等)
下层: CH2Cl2 (CHCl3) ¾上层:甲醇 (乙醇等)
3.气相扩散法
A:良溶剂溶液,沸点较高
B:不良溶剂,沸点较低
常用溶剂体系:
适用于极性较大化合物:DMF/乙醚;MF/己烷
适用于极性较小化合物:DMF/水;DMSO/水
4.水热法或溶剂热法
适用于特别难溶的化合物 (如二维或三维配位网络),经常在反应生成某种化合物的同时,生长其晶体。该方法有时可以得到其他方法无法得到的奇特结构;
需控制好溶剂和温度,高温条件下溶剂蒸汽自动产生一定压力,反应一段时间后,控制降温,冷却到室温之后,收集晶体。
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