MCM箱模型应用与O3形成途径、生成潜势、敏感性分析
OBM箱模型可用于模拟光化学污染的发生、演变过程，研究臭氧的生成机制和进行敏感性分析，探讨前体物的排放对光化学污染的影响。箱模型通常由化学机理、物理过程、初始条件、输入和输出模块构成，化学机理是其核心部分。MCM (Master ChemicalMechanism)包含了约6700个有机物，大约17000个反应，可以详细描述大气气相有机物的化学过程，被广泛用于大气科学研究领域。
旨在帮助学员掌握大气臭氧生成的基础知识、MCM箱模型的建立以及对O3生成的控制前体物进行判断的技术。采用“理论讲解+案例实战+动手实操+讨论互动”相结合的方式，抽丝剥茧、深入浅出地讲解大气臭氧生成的基础知识及EKMA曲线在应用中需要掌握的经验和技巧。
一、大气中O3形成知识基础、MCM和Atchem2原理及Linux系统安装
1、大气中O3形成的原理知识讲解
2、MCM原理及基本流程讲解
3、Atchem 2 讲解及下载安装
4、Linux系统安装
5、Atchem 2 运行需要的其他工具
A、Fortran；B、Python；C、make, cmake
二、MCM建模、数据输入、模型运行及结果输出【讲解+案例操作】
1、MCM 箱模型建立
1）化学机理
A、Facsimile 格式；B、RO2；C、MCM 的提取
2）模型参数的设定
3）环境变量
A、温度；B、大气压；C、相对湿度；D、水；E、太阳高度角；F、边界层高度；G、气溶胶表面积；H、扩散速率；I、JFAC；J、Roof
4）光解速率
A、常数光解速率；B、限制光解速率；C计算光解速率；D、JFAC计算
5）各种config. 文件
2、MCM箱模型运行
3、MCM模型运行结果分析
案例：对MCM箱模型运行结果进行分析
三、O3形成途径、生成潜势及其敏感性分析【讲解+案例操作】
1、O3 形成途径
案例：不同反应途径对O3形成的贡献
2、O3敏感性分析Ⅰ：相对增量反应性方法（RIR）
案例：通过RIR的计算，判断O3的主要来源
3、O3敏感性分析Ⅱ：EKMA曲线绘制
1）O3 等值线数据的获得
2）EKMA曲线绘制
案例：通过EKMA曲线的绘制，判断O3的主要来源
4、O3生成潜势
案例：VOCS O3生成潜势的计算
注：请提前自备电脑及安装所需软件。
更多系统学习：WRF模式、NCL、CMAQ、PMF源解析、Calpuff模型、FLEXPART模式、SMOKE模型、WRF-Chem、WRF-Hydro、WRF-UCM、WRF-SOLAR、WRFDA等。
