硅基底碳纳米管阵列的制备
采用自制的氧化装置,制备了多孔氧化铝模板和基底氧化铝模板,对制备的模板进行 SEM、AFM 和能谱表征,研究了电解液、度、电压和时间等不同氧化条件对模板参数的影响。
采用CVD催化热裂解甲烷,模板限制法在硅基底上制备了碳纳米管阵列,分别采用三种实验方案:利用模板限制硅基底上沉积 Ni颗粒,生长碳纳米管阵列,直接在清洁的硅基底上粒子束溅射Ni颗粒生长碳纳米管阵列在硅基氧化模板孔道中交流电沉积 Ni 催化剂,生长碳纳米管阵列。比较了各方案的优缺点,对制备的样品进行电镜和拉曼光谱分析。
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QY小编zyl2023.5.6

