有机硅废气处理工艺

一、有机硅废气简述

有机硅，俗称有机硅化合物，是指含有Si-C键、且至少有一个有机基是直接与硅原子相连的化合物的总称。由于有机硅独特的结构，兼备了无机材料与有机材料的性能，并具有耐高低温、电气绝缘、耐氧化稳定性、耐候性、难燃、憎水、耐腐蚀、无毒无味以及生理惰性等优异特性，广泛应用于航空航天、电子电气、建筑、运输、化工、纺织、食品、轻工、医疗等行业，其中有机硅主要应用于密封、粘合、润滑、涂层、表面活性、脱模、消泡、抑泡、防水、防潮、惰性填充等。随着有机硅数量和品种的持续增长，应用领域不断拓宽，形成化工新材料界独树一帜的重要产品体系，许多有机硅产品是其他化学品无法替代而又必不可少的。但是有机硅在制造生产过程产生粉尘、氯化氢（HCl）、氯甲烷、甲醇等废气污染物。这些废气污染物，如果没有经过收集净化处理，直接排放进入大气环境中，既造成大气空气污染又对周边居住的居民身体健康有伤害，因此，必须对有机硅废气进行净化处理后，达到大气污染标准排放要求。

二、有机硅废气处理方法

有机硅制造生产过程产生废气主要为粉尘、氯化氢（HCl）、氯甲烷、甲醇等，对于粉尘处理采用布袋除尘法，氯甲烷废气处理采用冷凝法，氯化氢酸性气体处理采用酸碱中和法，而对于甲醇有机废气处理方法有很多种，常见主要有活性炭吸附、UV光解净化、催化燃烧等，下面介绍有机硅废气处理工艺。

2.1布袋除尘法

将集气罩收集废气通过管道输送进入布袋除尘设备，对废气中的粉尘净化处理后，通过烟囱高空达标排放。

2.2 冷凝工艺

冷凝法是利用废气在不同温度下具有不同饱和蒸汽压这一性质，采用降低系统温度或提高系统压力，将处于蒸汽状态的污染物冷凝并从废气中分离，达到净化的目的。冷凝法能使废气得到很高程度的净化，但是高的净化要求，往往是室温下的冷却水所不能达到的。净化要求愈高，所需冷却的温度愈低，必要时还得增大压力，这样就会增加处理的难度和费用。因而，冷凝法往往与吸附、燃烧和其它净化手段联合使用，以回收有价值的产品。

2.3酸性气体处理

对含酸性废气，经废气洗涤塔酸碱中和处理，达到国家排放标准后排放。

2.4 有机废气处理工艺

（1）活性炭吸附

活性炭吸附法主要原理就是利用多孔固体吸附剂（活性碳、硅胶、分子筛等）来处理有机废气，这样就能够通过化学键力或者是分子引力充分吸附有害成分，并且将其吸附在吸附剂的表面，从而达到净化有机废气的目的。吸附法目前主要应用于大风量、低浓度（≤800mg/m3）、无颗粒物、无粘性物、常温的低浓度有机废气净化处理。

活性炭净化率高（活性炭吸附可达到90%以上），实用遍及，操纵简单，投资低。在吸附饱和以后需要更换新的活性炭，更换活性炭需要费用，替换下来的饱和以后的活性炭也是需要找专业人员进行危废处理，运行费用高。

（2）UV光解净化

UV光解净化法利用高能UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧（即活性氧），因游离氧所携带正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，臭氧具有很强的氧化性，通过臭氧对有机废气、恶臭气体进行协同光解氧化作用，使有机废气、恶臭气体物质降解转化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解净化法具有高效处理效率，可达到95%以上；适应性强，可适应中低浓度，大气量，不同有机废气以及恶臭气体物质的净化处理；产品性能稳定，运行稳定可靠，每天可24小时连续工作；运行成本低，设备耗能低，无需专人管理与维护，只需作定期检查。UV光解法因采用光解原理，模块采取隔爆处理，消除了安全隐患，防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，特别适用于化工、制药等防爆要求高的行业。

（3）催化燃烧

RCO蓄热式催化燃烧设备（ Regenerative Catalytic Oxidition，简称 RCO）是将低温催化氧化与蓄热 技术 相结合的一种有机废气处理设备，应用于处理 中、 高浓度（ 1000mg/m³—8000mg/m³）有机废气 净化 的环保设备。 RCO蓄热式催化燃烧设备 是在 RTO蓄热式焚烧设备的基础上发展而来，在蓄热设备的蓄热陶瓷层上布置一层催化剂，使进入的废气在200℃-400℃下进行催化燃烧分解成二氧化碳和水，从而达到净化废气的目的。

废气首先通过陶瓷材料填充层（底层）预热后发生热量的储备和热交换，其温度几乎达到催化层（中层）进行催化氧化所设定的温度，这时其中部分污染物氧化分解。

废气继续通过加热区（可采用电加热方式或天然气加热方式）升温，并维持在设定温度；其再进入催化层完成催化氧化反应，即反应生成CO2和H2O，并释放大量的热量，以达到预期的处理效果。

经催化氧化后的气体进入其他陶瓷材料填充层，回收热能后通过旋转阀排放到大气中，净化后排气温度仅略高于废气处理前的温度。系统连续运转、自动切换，通过旋转阀工作，所有的陶瓷填充层均完成加热、冷却、净化的循环步骤，热量得以回收。