Hastelloy C-2000化学成分Hastelloy C-2000对应牌号
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Hastelloy C-2000(N06200,2.4675)哈氏合金 圆钢 棒 板 管价格
Hastelloy C-2000
Hastelloy C-2000是NI-CR-MO合金,以C4合金为基础提高了铬的含量,并加入了铜,大大提高了合金耐氧化性和还原性介质的腐蚀能力,是目前本系列内耐硫酸腐蚀好的合金,但耐晶间腐蚀不如C4。所以如在硫酸环境下使用本合金上海墨钜觉的应该优选择。
Hastelloy C-2000化学成分:
碳C:≤0.010 ,
硅Si:≤0.08 ,
锰Mn:≤0.50 ,
磷P:≤0.040 ,
硫 S:≤0.020 ,
镍Ni:基,
铬Cr:22.0~24.0 ,
钼Mo:15.00~17.0,
铁Fe:≤3.0,
铝AL:≤0.50,
铜 Cu:1.3~1.9
Hastelloy C-2000对应牌号:牌号:NS3405,00Cr23Ni57Mo16Cu2,00Cr23Ni59Mo16Cu1.6,美标牌号:Hastelloy C-2000,No6200,德标牌号:2.4675,NiCr23Mo16Cu
Hastelloy C-2000加工及焊接:此合金加了铜,使热加工变的困难,可参照C4加工,冷加工同样参照C4,上焊接性能良好性能良好。
情况:在H2、SO4、HCL酸和HF酸等还原性介质中,其耐均匀腐蚀与其他相同。提高了合金耐氧化性和还原性介质的腐蚀能力,是目前本系列内耐硫酸腐蚀好的合金,但耐晶间腐蚀不如C4。
Hastelloy C-2000物理性能:密度8.50g/cm3,熔点-,比热容:427 100J/kg.K,热导率:9.1 W(m.K),弹性模量:205000 MPa,抗拉强度:690,屈服强度:310,延伸率A5 %:40。
Hastelloy C-2000应用领域:主要用于即存在氧化又存在还原性腐蚀介质的化学加工设备和部件,如反应器,热交换器、阀、泵、紧固件等,上海墨钜觉的本合金更加适用于HF酸生产和使用中含氟物催化剂的环境。
近日,华中科技大学又有2名毕业生入选华为“天才少年”。今年入选的廖明辉和武敏颜分别来自华中科技大学电信学院和计算机学院。廖明辉为应届博士毕业生,已拿到“天才少年”最高一档年薪201万元;武敏颜本科毕业,年薪也超百万元。