绕过EUV技术 佳能开始销售5nm芯片生产设备

传统芯片制造是需要光刻机来实现的，全球范围内能够生产光刻机的厂商并不多，其中能够生产EUV光刻机的厂商却只有荷兰ASML一家。所以寻求替代光刻机制造芯片的方法，也开始慢慢的浮出水面。佳能最近开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备，这标志着该公司在半导体领域采用了一种不同于传统光刻技术的创新方法，被称为纳米印刷。这项技术的突破意味着能够制造5纳米节点的芯片，而无需依赖复杂且昂贵的极紫外光刻机。佳能与存储芯片制造商铠侠合作，研发了芯片纳米印刷技术。该技术旨在推动半导体制程进一步缩小至5纳米，而无需使用EUV光刻机。 佳能公司近日宣布，其已经开始销售基于纳米印刷技术的芯片生产设备FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5纳米芯片。据报道，在半导体制程技术进入5纳米节点之后，EUV极紫外光刻机已经成为了不可或缺的关键设备。但是，因为EUV光刻机造价高昂，每台价格超过1亿美元，而且EUV光刻机仅荷兰ASML一家产生能够供应，且产能有限，这使得芯片的生产成本大幅升高。为此，从2017 年开始，半导体设备厂佳能就与存储芯片大厂铠侠，以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发基于纳米压印 的量产技术，可以不使用EUV光刻机，就能使制程技术推进到5nm。