半导体光刻胶企业增值税高怎么办？怎么节税缩短差距？
半导体光刻胶企业增值税高怎么办？怎么节税缩短差距？
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在新兴终端市需求配合国家政策扶持之下，半导体的产业链经过了两大阶段：美国诞生，日本垄断。如今伴随着5G、AI行业快速发展与国内政策的大力支持，中国有望承接来自日本和韩国的半导体产业链。
2019-2026年全球光刻胶市场规模将由82亿美元提升至123亿美元，对应CAGR约为6.0%；中国大陆光刻胶市场规模则将由81亿元提升至153亿元，对应CAGR约为9.5%。
光刻是利用光学、化学、物理方法，将设计好的电路图转移到圆晶表面，是光电信息产业链中的核心环节。光刻胶是利用光化学反应，经过曝光、刻蚀等工艺将所需要的图形从掩模板转移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使光刻胶的溶解度发生变化。
按照下游的应用领域，光刻胶能主要分为半导体光刻胶，应制电路板光刻胶、液晶显示光刻胶等。
光刻胶的产业链上游：原树脂、单体、感光剂、溶剂等原材料。中游是基于配方的光刻胶的生产合成；下游为各芯片应用环节。
目前光刻胶产业链的三个环节都存在较高的技术壁垒。目前全球高端半导体光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断，国产替代率较低。面对这一市场行情，光刻胶半导体企业自然离不开技术研发，进行国产替代。
如今有部分，园区有税收政策，能够降低企业的税负压力，使得企业有更多的资金用于技术研发、产能等方面缩短和日本以及美国的差距。
产业扶持政策：总部经济园区内注册成立有限公司，申请政策之后可获得缴纳的增值税和企业所得税的奖励补贴，补贴比例为70%—90%，高额的资金补贴使得企业的资金流更加健康。并且补贴按月进行兑现，当月即可得到上月的奖励补贴。
总部经济园区，无需企业实体入驻，办理流程简单。无需法人到场办理。如本文未能解决您的问题，可私信或评论小编以获取适合本企业的税务筹划方案。
