传力传感器BSS-100Kg

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信息量很大，光刻机关键环节或正在突破

从目前这篇文章来看，信息量很大。文章指出，这则消息透露，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。而此前华为的一项最新专利，在极紫外光刻机核心技术上取得突破性进展。

此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，这标志着华为在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。

怎么看待这则消息了，首先，这是官媒公布的消息，信源肯定靠谱。其次，上海微电子可以生产28纳米光刻机，意味着我们解决了从0到1的问题；华为的“反射镜、光刻装置及其控制方法”，则可以让我们在极紫外线光刻机领域实现从1到100的发展。