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【电子】模拟电子技术基础 上交大 郑益慧主讲(模拟电路/模电 讲课水平堪比...

2023-08-16 10:47 作者:心灵之龙  | 我要投稿

第一章 常用半导体器件

1.1基础知识

1.1.1本征半导体

一、半导体

1、概念:导电性介于导体和绝缘体之间

2、本征半导体:纯净的具有晶体结构的半导体

二、本征半导体的晶体结构


三、载流子

1.本征激发

2.自由电子:可导电

3.空穴:价电子依次填补空穴,造成空穴相对移动,也可以导电

4.复合:一对自由电子和空穴湮灭,重新形成共价键,与本征激发互逆

四、本征半导体的载流子浓度

本征激发跟温度相关,温度相关,载流子浓度升高,复合的速度跟浓度相关,复合速度越快,最终复合速度和本征激发速度想等,达到动态平衡


02-PN结的形成 P2 - 08:19


1.1.2 杂质半导体

一、概念

往本征半导体 掺杂 少量 的杂质元素

二、N型半导体

1.掺入磷(P),五价元素

2.多子

自由电子是多数载流子(多子)

3.少子

空穴是少数载流子(少子)

注:

①N型半导体的少子比同等条件下的本征半导体的空穴多

N型半导体的少子受温度的影响大(基数小)

N型半导体的多子受温度的影响小(基数大)

④N型半导体的电性:电中性

三、P型半导体

掺入硼,三价元素

1.1.3 PN结

一、PN结的形成

1.扩散运动:浓度差🔥

2.空间电荷区:耗尽层,阻挡层,PN结

3.漂移运动:PN结的作用下,少子向N区移动的现象

4.对称结:多子的扩散运动和少子的漂移运动达到动态平衡

5.不对称结:电荷一样,但浓度不一样会导致PN结的宽窄不同

二、PN的单向导电性


02-PN结的形成 P2 - 39:41


1.外加正向电压(由P到N),外电场削弱内电场,调节电源电压,突破死区后,电流随电压增大呈指数上升,势垒被削弱,扩散运动重新得以恢复,导电

注:限制电流,避免PN结烧掉,加入电阻(限流电阻)起保护作用

2.外加反向电压(由N到P),外电场与内电场一直,PN结阻止作用加强,漂移运动加强(电流小,可忽略,对温度敏感),不导电

3.PN结的伏安特性

三、PN结的电流方程

Is:反向饱和电流,Ut是温度当量,室温下,Utw=26mV

U:PN结所加外电压 Ge: 0.2~0.3V,Si:0.6~0.7V

四、PN结的伏安特性

1.正向特性:

死区

2.反向特性:

Ge的反向电流比Si大

3.反向击穿

(1)雪崩击穿

①掺杂浓度低,PN结加长,外加反向电压不断增大,空间电荷区电场不断加强,类似粒子加速器,撞击共价键,使其电离,价电子变自由电子

②温度越高,所需击穿电压越高🍁

(2)齐纳击穿🏵

掺杂浓度高,PN结狭窄,很小的电压也能产生较大场强,价电子直接摆脱共价键束缚,形成反向电流,PN结击穿,温度升高

②温度越高,所需击穿电压越低🍁

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