半导体废水处理方案会有什么？分质分系统预处理

由于半导体生产是流程复杂、工艺多，且用水量多，其产生的半导体废水则是废水量大、污染物很多、浓度高等特点的工业废水。

（1）半导体废水采取分质分系统预处理是非常重要的，不同工艺产生的废水水质差别非常大，比如有含氟废水、含磷废水、含氨废水、含铜废水等，如果采取混合一起处理，不仅加大了处理难度（交叉感染等），而且忽略了混合后的污染物浓度问题，不利于更精细化处理。

（2）预处理工艺一般以物理化学法为主，其中化学沉淀法是使用较多的方法，可以根据废水的污染物不同采取不同的化学药剂，进而做到将其沉淀去除。

例如含氟废水是采用CaCl2做为其的化学药剂，使氟离子形成CaF2沉淀，与絮凝沉淀的方法（PAC、PAM等）使沉淀形成矾花，在沉淀池当中进行固液分离，达到比较理想的除氟效果。

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（3）半导体废水会有排放出高浓度氨氮废水，而处理高浓度氨氮废水的工艺为氧化法、吹脱法、生物法等。某企业采用的是两级吹脱的方式，将氨氮浓度超过1000mg/L的废水做到达标排放。

吹脱法脱除水中氨氮，是利用NH4+和NH3之间的动态平衡，在碱性条件下将气体通入水中，使气液相互充分接触，同时水中溶解的游离氨穿过气液界面，向气相转移，从而达到去除氨氮的目的。影响吹脱效率的主要因素有：pH值、水温、布水负荷、气液比、足够的气液分离空间。

（4）厌氧→缺氧→好氧（A2/O）工艺不仅是去除可以去除有机物的方法，而且具有很好的脱氮除磷效果，可以用在处理半导体废水中的有机废水。这三个池子功能会有所不同，且停留时间根据时间情况设计，厌氧主要是释放磷，同时对有机物进行部分氨化；缺氧池主要是用来脱氮的；好氧池能够去除BOD还能进行消化和吸收磷。