GB28275硅基MEMS制造技术

GB28275硅基MEMS制造技术 – 标准名称

GB28275: Silicon-based MEMS fabrication technology. Specification for KOH etch process

GB28275：硅基MEMS制造技术，氧化钾腐蚀工艺规范 

GB28275硅基MEMS制造技术 – 适用范围

规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。 

Scope: This standard specifies the use of potassium hydroxide etch process performed MEMS device fabrication process requirements to be followed.This standard applies to KOH etching process and management. 

GB28275硅基MEMS制造技术 – 参考标准 

GB/T 26111 微机电系统（MEMS）技术，术语

GB/T 1031产品几何技术规范（GPS），表面结构，轮廓法，表面粗糙度参数及其数值

GB 50073-2001 洁净厂房设计规范

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出自：GF2021