突破EUV光刻机？中国建光刻机工厂，全网沸腾？官方揭开真相……

近日有消息称，清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并配图称该项目已在雄安新区落地。

对于相关消息，中国电子工程设计院有限公司（以下简称“中国电子院”）官方日前发布微信公众文章予以辟谣。

这个巨型建筑其实是北京高能同步辐射光源（HEPS），是国家“十三五”重大科技基础设施，由中科院高能所承担建设。它不是光刻机工厂，而是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。

它可以产生高能量、高亮度的同步辐射光，穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

它是进行科学实验的大科学装置，为基础科学和工程科学等领域原创性、突破性创新研究提供重要支撑。该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。

从项目可研立项到项目落地，中国电子院攻克了多项技术和工艺难关，实现了重大技术突破，指标控制达到了国际先进水平。HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

届时，它将成为世界最先进的X射线光子科学研究平台之一，为探索物质内部结构与变化过程的强有力的科学工具。