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XPS测试中CHN含量为什么测不准?

2022-09-13 15:59 作者:bili_74204057874  | 我要投稿

在做X 射线光电子能谱(XPS)测试时,科学指南针检测平台工作人员在与很多同学沟通中了解到,好多同学仅仅是通过文献或者师兄师姐的推荐对XPS测试有了解,但是对于其原理还属于小白阶段,针对此,科学指南针检测平台团队组织相关同事对网上海量知识进行整理,希望可以帮助到科研圈的伙伴们;

 

XPS CNO含量测不准问题

@指南针杭州张大萌萌老师

 

故事背景:

俗话说开门做生意,来者都是客,

万事屋作为科研界首屈一指的仪器共享平台

服务过的客户量可以说

手拉手连起来可以绕地球好几圈,

群体的广泛让个人的差异高亮且突出,

毕竟成年人的生活总是这么喜怒无常,

有些话总能让你上一秒还能平静如昨,

下一秒就只想立地成佛。

 

这不,第一位客人来了。

 

客人A:

您好,我测了个XPS,

但是发现结果不对啊,

我样品中明明没有这个元素

怎么测出来有百分之十几,

这不合理啊?

 

张张老师:

您好,请问您是测试哪些元素呢?

 

客人A:

就一个元素N,另外C是你们默认给测的

 

张张老师:

额。。。

 

内心独白:

让平静的本萌哑口无言的

不是因为客户的无理要求,

而是这个在工作中解释了无数遍的问题,

今日又要复述一遍,

平静一番后,本萌回复

 

张张老师:

您好,是这样的哈,

首先跟您解释下XPS测试的是

表面10nm左右深度的元素含量,

且得到的是相对含量,

是一种半定量半定性的测试手段,

关于您的这种情况是合理且必然的。

 

张张老师:

首先

空气中的CHO的小分子

很容易吸附到样品表面,

尤其是粉末样品,使得表面造成污染,

因此,对于C,N,O这类元素,

即使样品中没有也会被测试出来;

 

张张老师:

其次,

XPS测试出来的是样品表面

C和N元素的相对含量值,

值的大小取决于另外一个元素,

不能用其作为准确定量的手段,

仅可侧面判断样品中的组成成分;

 

张张老师:

最后,

如果想避免表面被污染或氧化的影响,

建议可以刻蚀一定深度后测试,

不过刻蚀

对块状或薄膜的样品比较有效。

如果您是粉末样品但是一定要用

XPS证明样品中不含N元素,

那么您需要保证

样品在制备及测试的

整个过程中不接触空气。

因此这个问题希望您能理解!

 

客人A:

原来是这样啊,

我第一次接触XPS不知道,

这次学到了,谢谢您!

 

张张老师:

不客气,有问题及时联系。

 

让本萌痛并快乐且乐此不疲的事情就是

在帮助到客户后收到的这一声谢谢,

因为它是镇定剂它是安心丸,

它是堪比救命稻草的续命丸。

 

这不,吃完马上元气满满迎接下一位客人。

 

客人B:

您好,请问您这边

XPS可以做氩离子溅射吗?

我有一个有机薄膜样品

希望能精确刻蚀100nm之后测试?

 

张张老师:

额。。。。

 

内心独白:

果然是个有挑战性的问题,

如果没有对XPS有过深入了解还真不清楚,

好在本萌的队伍高手如云,

处理这种问题绰有余裕。

 

张张老师:

这个问题是这样的哈,

首先

设备上有不同的功率刻蚀,

不同功率的刻蚀速率

是根据标准样品

硅表面的氧化硅的计算速率的,

如果说要求刻蚀100nm,

老师也只是根据标准样品的

溅射深度来设置参数,

如果必须要求刻蚀样品100nm,

就需要做标准样品(需要您自己提供哦),

 

张张老师:

另外刻蚀一般用氩离子枪,

当然还有别的比如C60,

但并不是所有样品适合做溅射,

尤其是有机物最好不要用氩离子枪溅射,

有可能把元素的价态打的变化了

(比如氧化物打成单质),

那样就不是原来的样品了。

 

客人B:

是这样啊,

那我没有标样想要精确控制刻蚀深度

就很难了,

我再找下其他的方案,

后面再联系您啊,非常感谢!

 

张张老师:

不用客气哦,随时联系!

 

突然觉得不断提需求的客人们,

不断地刷新着本萌的技能及知识范围,

这何尝不是一种互利互惠的好事情,

作为一个世界和平主义者,

本萌所希望的服务者与被服务者之间

就是这样一种互相支持,

共同进步的关系,

毕竟争执解决不了任何问题,

赢得辩论的唯一办法就是避免辩论。


关于XPS测试,今天就分享到这里。如果内容对你有帮助,希望大家不要吝啬点个赞哦,我们会继续给大家输出更多优质内容~


最后,祝大家科研顺利!如果你想了解更多关于XPS的知识,可以扫码关注下哦~


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