培训大纲

01 OpticStudio 软件功能介绍;

02 材料库、镜头库介绍；

03 如何定义新材料；

04 如何使用镜头库；

05 像差理论介绍；

06 Zemax 里像差分析图谱；

07 优化;

08 局部优化

09 全局优化；

10 锤形优化；

11 优化函数架构技巧；

12 单透镜优化实例

13 双胶合优化实例；

14 热分析及衍射光学元件的使用;

15 实例设计及分析；

16 MTF

17 双高斯镜头设计及优化；

18 像质评价与图像模拟；

19 坐标变换；

20 坐标断点面的使用技巧

21 序列模式棱镜建模；

22 扫描反射镜设计实例；

23 柯勒照明综合设计实例；

24 投影系统设计

25 集光系统设计；

26 暗盒系统介绍；

27 分析工具应用；

28 寻找最佳非球面

29 曲率套样板；

30 镜头匹配工具；

31 Zemax公差分析功能介绍;

32 加工误差、装配误差；

33 灵敏度分析;

34 反灵敏度分析;

35 蒙特卡罗分析;

36 公差评价标准；

37 公差操作数；

38 补偿变量的使用；

39 单透镜公差分析；

40 库克镜头公差分析；

41 分析报告查看说明；

42 公差脚本的使用；

43 镜头出图、CAD 出图；

44 小结及答疑。

培训信息

主办单位：武汉宇熠科技有限公司

培训主题：Zemax 成像设计

培训形式：线上培训

培训时间：2022年7月6~7日 (9:00-17:00)

培训费用：¥ 1980元 / 人 

(三人及以上组团报名可享八折优惠)

报名方式：http://www.ueotek.com/register.php

注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。